لیست مقالات ترجمه شده / خرید و دانلود
شما در حال
خرید ترجمه فارسی مقاله Transparent MgF2-films by sol–gel coating: Synthesis and optical properties هستید:
شما در حال
خرید ترجمه فارسی مقاله Transparent MgF2-films by sol–gel coating: Synthesis and optical properties هستید:
پیش از اقدام به خرید ترجمه فارسی می توایند نسخه انگلیسی را به صورت رایگان دانلود و بررسی نمایید. متن چکیده و ترجمه آن در پایین همین صفحه قابل مشاهده است.
موسسه ترجمه البرز اقدام به ترجمه مقاله " فیزیک " با موضوع " لایه‌های شفاف MgF2 به وجود آمده با سل-ژل: خواص ترکیبی و نوری " نموده است که شما کاربر عزیز می توانید پس از دانلود رایگان مقاله انگلیسی و مطالعه ترجمه چکیده و بخشی از مقدمه مقاله، ترجمه کامل مقاله را خریداری نمایید.
عنوان ترجمه فارسی
لایه‌های شفاف MgF2 به وجود آمده با سل-ژل: خواص ترکیبی و نوری
نویسنده/ناشر/نام مجله :
Thin Solid Films
سال انتشار
2008
کد محصول
1005329
تعداد صفحات انگليسی
3
تعداد صفحات فارسی
8
قیمت بر حسب ریال
676,500
نوع فایل های ضمیمه
Pdf+Word
Abstract
Dielectric, anti-reflective or high reflective systems consist of low and high refractive index layers. Common systems are oxides. The preparation of low refractive index MgF2-films of optical quality by means of an anhydrous low temperature sol–gel synthesis is presented. The MgF2-sol is prepared by spin-coating on silicon and glass substrates. Various film thicknesses between 20 nm and 435 nm have been deposited. It has been shown that the thickness increase is proportional to the number of coating steps. The deposited MgF2-films consist of 10 nm to 20 nm large nanoparticles and have smooth surfaces with an average roughness (Ra) of (1.7 ± 0.3) nm. The optical constants n and k of the films are in agreement with the literature data of bulk-MgF2
چکیده
سیستم‌های دی الکتریک، غیرصیقلی (anti-reflective) و بسیار صیقلی متشکل از لایه‌هایی با ضریب شکست کم و زیاد می باشند. سیستم‌های رایج، اکسیدی می باشند. در اینجا آماده سازی لایه‌های MgF2 با ضریب شکست پایین و کیفیت نوری خوب با استفاده از یک ترکیب سل-ژل بی آب دما پایین، ارائه شده است. سل MgF2 با پوشش دهی چرخشی روی زیرلایه‌های سیلیسیمی و شیشه ای آماده سازی می شود. ضخامت‌های لایه مختلف بین 20 تا 435 نانومتر رسوب داده شد. نشان داده شده است که افزایش ضخامت متناسب با تعداد مراحل پوشش دهی می شود. لایه‌های MgF2 رسوب داده شده متشکل از 10 تا 20 نانومتر، نانوذره‌های بزرگ بوده و سطوحی صاف با رافنس میانگین (Ra) حدود 0.3±1.7 نانومتر دارند. ثوابت نوری n و k لایه‌ها مطابق داده‌های موجود برای MgF2 حجیم می باشد.
1-مقدمه
سیستم‌های چند لایه دی الکتریک، غیرصیقلی یا بسیار صیقلی متشکل از لایه‌های دی الکتریک متناوب با ضریب شکست کم و زیاد می باشد. ددر حال حاضر، رایج ترین مواد، اکسیدهایی نظیر SiO2 به عنوان مواد با ضریب شکست پایین (n500 = 1.46) و TiO2 (تا n500 = 2.40) یا Ta2O2 (n500 = 2.10) به عنوان مواد با ضریب شکست بالا می باشد. این سیستم‌های اکسیدی، بسته به الزامات اندازه و عملکرد دستگاه نوری، عمدتاً به روش رسوب فیزیکی بخار (PVD) نظیر تبخیر یا کاتد پرانی (sputtering)، تولید می شوند....
خدمات ترجمه تخصصی و ویرایش مقاله فیزیک در موسسه البرز