Skip Navigation Linksلیست مقالات ترجمه شده / مقالات ترجمه شده مهندسی برق /

عنوان ترجمه شده مقاله: وابستگی کلی به بایاس در جریان اضافی تولید شده در اثر خود گرمایش در ترانزیستورهای پوسته-نازک(TFT) نوع a-Si:H

رابطه‌ای بین وابستگی کلی بایاس در جریان اضافی تولید شده در اثر خود-گرمایش با افت توان در ترانزیستورهای پوسته-نازک a-Si:H یافت شده است .

Abstract

A universal bias correlation of the excess current induced by the self-heating effect is found with the dependence on the dissipated power for a-Si:H thin-film transistors (TFTs). By inspecting the characteristics of IDS/W versus W, the channel width for TFTs without the self-heating effect is identified. From the difference of the total current and the nonself-heating one, the excess current is extracted. Based on the transport mechanism, together with the intrinsic nature of the direct correlation between lattice temperature and joule heating, the underlying mechanism for the self-heating effect of a-Si:H TFTs is investigated. This discovery will be beneficial to further establish the physics-based model for the self-heating effect of a-Si:H TFTs

چکیده

 رابطه‌ای بین وابستگی کلی بایاس در جریان اضافی تولید شده در اثر خود-گرمایش با افت توان در ترانزیستورهای پوسته-نازک a-Si:H یافت شده است . با بررسی ویژگیهای IDS/W  در مقابل W ، پهنای باند ترانزیستورهای پوسته-نازک بدون اثر خود-گرمایش مشخص میشود. از اختلاف جریان کل و جریان در حالت بدون خود-گرمایش، مقدار جریان اضافی بدست می‌آید. براساس مکانیسم انتقال، به همراه طبیعت ذاتی وابستگی بین دمای شبکه و گرمایش ژول، مکانیسم اصولی برای اثر خود-گرمایش در ترانزیستورهای پوسته-نازک a-Si:H مورد بررسی قرار گرفته است. این کشف در ساخت مدل فیزیکی برای اثر خود-گرمایش ترانزیستورهای پوسته-نازک مفید خواهد بود.

1- مقدمه

به تازگی فن‌آوری محرک درگاه در آرایه‌ها با استفاده از ترانزیستورهای پوسته-نازک a-Si:H مورد توجه گسترده‌ای قرار گرفته است [1]-[4]. این فن‌آوری مدارهای تحریک کننده‌ی جانبی را در صفحات TFT-LCD ترکیب میکند. این مساله تابع چگالی صفحه‌ی نمایش را افزایش داده و ابعاد فیزیکی و همچنین هزینه‌ی تولید را کاهش میدهد. با این حال با تحرک نسبتا کم ترانزیستورهای پوسته-نازک a-Si:H ، در حدود 0.1-1 cm2/V.s، به پهنای باند بزرگتری برای قطعات TFT در GOA  ، در مقایسه با آنچه به طور معمول در پیکسل‌های LCD مورد نیاز است ، نیاز خواهد بود . با شرایط معمول عملیاتی به واسطه‌ی چندین میلی آمپر جریان و دهها ولت مورد نیاز در GOA،‌ به همراه رسانایی گرمایی پایین شیشه، مقدار گرمای ژول که توسط افت توان در باند جمع شده است، باعث اثر خود-گرمایش در TFT‌های a-Si:H خواهد شد. بدلیل اتصال ضعیف پوسته a-Si،‌ مشکل قابل اطمینان بودن، یکی از تنگناهای توسعه‌ی فن‌آوری براساس a-Si بوده است. اثر خود-گرمایش همراه شده، مشکل ناپایداری را در TFT‌های a-Si:H بدتر میکند. ...


موسسه ترجمه البرز اقدام به ترجمه مقاله " مهندسی برق " با موضوع " وابستگی کلی به بایاس در جریان اضافی تولید شده در اثر خود گرمایش در ترانزیستورهای پوسته-نازک(TFT) نوع a-Si:H " نموده است که شما کاربر عزیز می توانید پس از دانلود رایگان مقاله انگلیسی و مطالعه ترجمه چکیده و بخشی از مقدمه مقاله، ترجمه کامل مقاله را خریداری نمایید.
عنوان ترجمه فارسی
وابستگی کلی به بایاس در جریان اضافی تولید شده در اثر خود گرمایش در ترانزیستورهای پوسته-نازک(TFT) نوع a-Si:H
نویسنده/ناشر/نام مجله :
IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES
سال انتشار
2007
کد محصول
1001336
تعداد صفحات انگليسی
7
تعداد صفحات فارسی
16
قیمت بر حسب ریال
940,500
نوع فایل های ضمیمه
Pdf+Word
حجم فایل
906 کیلو بایت
تصویر پیش فرض


این مقاله ترجمه شده را با دوستان خود به اشتراک بگذارید
سایر مقالات ترجمه شده مهندسی برق را مشاهده کنید.
کاربر عزیز، بلافاصله پس از خرید مقاله ترجمه شده مقاله ترجمه شده و با یک کلیک می توانید مقاله ترجمه شده خود را دانلود نمایید. مقاله ترجمه شده خوداقدام نمایید.
جهت خرید لینک دانلود ترجمه فارسی کلیک کنید
جستجوی پیشرفته مقالات ترجمه شده
برای کسب اطلاعات بیشتر، راهنمای فرایند خرید و دانلود محتوا را ببینید
هزینه این مقاله ترجمه شده 940500 ریال بوده که در مقایسه با هزینه ترجمه مجدد آن بسیار ناچیز است.
اگر امکان دانلود از لینک دانلود مستقیم به هر دلیل برای شما میسر نبود، کد دانلودی که از طریق ایمیل و پیامک برای شما ارسال می شود را در کادر زیر وارد نمایید


این مقاله ترجمه شده مهندسی برق در زمینه کلمات کلیدی زیر است:






a-Si:H thin-film transistors (TFTs)
potential barrier
scattering

تاریخ انتشار در سایت: 2014-07-09
جستجوی پیشرفته مقالات ترجمه شده

خدمات ترجمه تخصصی و ویرایش مقاله مهندسی برق در موسسه البرز

نظرتان در مورد این مقاله ترجمه شده چیست؟

ثبت سفارش جدید